【CNMO新闻】SK海力士近日宣布，公司已经完成了对中国无锡DRAM工厂的扩建。这家半导体厂商向名为C2F的全新工厂投入了8.36亿美元的资金，由此，SK海力士可以将DRAM的月产能提高至18万片。
SK海力士在新竣工的C2F工厂举办了相应的庆祝仪式，C2F占地5.8万平方米，并且已经开始实现投产了。新的DRAM工厂有望帮助SK海力士跟紧快速发展的中国厂商。
SK海力士
该公司的高级副总裁Kang Young-soo表示，无锡工厂将确保他们实现公司的中长期商业规划。通过运营现有的C2和C2F工厂，他们将能够实现生产效率的最大化。
SK海力士目前共有四家工厂，中韩两国各有两座。中国无锡工厂最早于2006年建成投产，SK海力士迄今为止约一半的DRAM产量均来自这里。尽管目前半导体产业因为市场供大于求的情况并不乐观，但SK海力士依旧将按照原定计划进行扩张。该公司透露，扩建工厂是为了提升DRAM芯片的微加工能力，这并不会增加公司的出货量。此外，公司还承诺会继续控制投资规模以避免加剧市场供过于求的局面。
SK海力士高管还补充道，本次无锡工厂的扩建也是为了配合公司在京畿道龙仁市建设半导体产业园的计划。
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